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將樣品（D）使用電子光束蒸鍍系統(tǒng)（E-Gun Evaporator , E-Gun）在樣品上鍍一層厚 150 奈米（nanometer，nm）的鋁。
接著在鍍好的鋁上，旋轉涂布（spin coating）一層 PMMA 光阻，再用加熱板烘烤
接著在鍍好的鋁上，旋轉涂布（spin coating）一層 PMMA 光阻，再用加熱板烘烤
一個小時。
我們采用電子束微影設備（E-Beam Writer）來進行曝光，以達到次微米級的微影條件，因為電子束的波長遠比一般所使用的深
我們采用電子束微影設備（E-Beam Writer）來進行曝光，以達到次微米級的微影條件，因為電子束的波長遠比一般所使用的深
紫外光短很多，隨著電壓增加，電子束波長亦會變得更短，
所以其解析能力可至次微米級。將設計好的圖案曝寫在樣品上，再使用顯影劑
所以其解析能力可至次微米級。將設計好的圖案曝寫在樣品上，再使用顯影劑
（MIBK）顯影。完成顯影后，我們使用氫氟酸（HF）來對鋁蝕刻，達成圖案轉移，
最后再用紫外光臭氧清洗機（UV-Ozone Asher）除去光阻，如此就完成我們的加工制程
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