東城電子掃描顯微鏡(SEM)用來量測納米級表面特征尺寸

作者：發布時間：2022-07-02 20:54:19點擊：1662

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電子掃描顯微鏡(SEM)用來量測納米級表面特征尺寸

一般而言，在量測奈米級表面特征尺寸主要之量測設備為電子掃描顯微鏡(SEM)、穿透式電子顯微鏡(TEM)、原子力顯微鏡(AFM)等儀器，

這些儀器可量測數十微米至幾個奈米等級表面特征，解析度都可達0.1 nm。但使用TEM時，TEM試片制作依照傳統方法，

經切割、研磨、離子薄化、鍍碳等過程，準備工作是相當費時費工，且屬于破壞性檢測。掃描式電子顯微鏡(CD- Scanning Electron microscopy, CD-SEM)

尚可量測CD，但受制于SEM使用高壓、高速電子，

其量測過程會衝擊待測物而造成損壞及高溫燒毀，或者造成光阻性質改變，且只能量測到2D，

對于SWA無法進行檢測。另外發展以光學散射量測CD技術，

但只適用于週期性光柵之線寬量測，無法量測單一條線寬，有鑑于此，

利用僅約奈牛頓力之原子力顯微鏡發展關鍵尺寸量測之技術，且AFM在線寬量測追溯系統也已被提出。

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