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影響穿透式電子電子顯微鏡測(cè)量的因素有哪些
例如電壓穩(wěn)定度、離焦、透鏡像差、電子束的分布函數(shù)、量測(cè)的重複性及再現(xiàn)性等。
針對(duì)在使用電荷耦合元件取得影像后，于影像處理軟體中進(jìn)行量測(cè)時(shí)由影像畫素所造成的不確定度進(jìn)行一系列探討。
在影像處理軟體中，有三種主要量測(cè)工具，其分別為line ROI tool、line profile tool與line tool。
在評(píng)估之后，其結(jié)果顯示以line profile tool進(jìn)行量測(cè)，可獲得最小量測(cè)不確定度以及更低擴(kuò)充不確定度百分比。
之后，便比較于真實(shí)空間中與倒置晶格空間中，由軟體最終所得之影像其影像畫素對(duì)于量測(cè)時(shí)的影響，
比較后發(fā)現(xiàn)，在降低擴(kuò)充不確定度百分比時(shí)，真實(shí)空間與倒置晶格空間兩者可達(dá)到近似的結(jié)果
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