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使用電子顯微鏡觀察試片表面氧化銅的結構
應用噴射式常壓式電漿法誘發奈米氧化銅形成于純銅金屬基
板。利用在大氣環境中以固定功率150W 進行表面處理圓嘴噴頭常壓電漿
與平嘴噴頭常壓電漿兩大類。圓嘴噴頭常壓電漿分別以氧氣、氮氣及氬氣
等三種不同的反應氣體在以5、10、20 mm/sec 分來進行；平嘴噴頭常壓電
漿以氧氣為反應氣體在以不同走速1、5、10、20、30 mm/sec。再以平嘴頭
常壓電漿表面處理的試片在鹽霧環境中進行奈米氧化銅晶粒成長的研究。
最后觀察實驗后，其試片表面奈米氧化銅的結構，并分別使用SEM 及
EDS 做表面顯微組織分析，多功能X 光薄膜繞射分析做表面奈米氧化銅結
構分析、水滴接觸角量測儀計算在實驗后水滴接觸角度的溼潤性變化、維
式硬度計觀察表面經處理后硬度變化，表面粗度測定儀量測處理過后的粗
糙度變化等，進而得知本實驗確實可以成功的在純銅基板上誘發奈米氧化
銅的成長。
關鍵詞：常壓電漿、氧化銅、奈米
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