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測量投影儀-微小待測物輪廓測量清晰工具顯微鏡
利用投影儀來投影光柵條紋至物體上，由
于投影儀的投射范圍太大，無法直接投射在微小待測物
上，因此透過自行組裝的方式改良投影儀的投射范圍，將
其投影面積限制在約20 × 10 mm 內，使其能涵蓋整個待測
物。但由于改裝時所選用的投影儀鏡頭并不是針對投影儀
而設計的，因此產生了光場分布不均的情況，
針對此狀況， 開發了補償機制以用來解決光場分布不均的問題；
雖然透過補償可以將光場分布不均的影響降至更低，但對
于影像的前處理及后續的分析上，還是可以見到光場分布
不均對影像品質的影響。
開發了漸進式的二 值化方法，可以順著光場分布的方向做二值化，經實驗證
明，此法可以有效改善因影像品質不佳而難以做二值化處 理的窘境。
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