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電子光學(xué)透鏡收取樣品上某定點(diǎn)所放出的所有光電子
原理是將不聚焦的光源照射在整個(gè)樣品上，利用電子光學(xué)透鏡收取樣品上某定點(diǎn)所放出的所有光電子，
接著改變電場(chǎng)收取不同點(diǎn)之光電子，比較其不同的光電子產(chǎn)量所形成之對(duì)比來(lái)顯像。因電子透鏡聚焦的性能可達(dá)納米尺度，
解析度可達(dá) 2-5 納米的 PEEM 系統(tǒng)。其解析度約在 40 納米左右。但一般此類儀器無(wú)法分解光電子的能量，因此所能獲得的化學(xué)訊息極為有限。
然在操作應(yīng)用上相對(duì)地較為簡(jiǎn)易，亦既可用可調(diào)波長(zhǎng)的光源(從紫外線至 X 光能量范圍)，
以表面吸附物引起的功函數(shù)變化或化學(xué)元素不同的吸收光譜來(lái)取得對(duì)比以及表面分佈的影像
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